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इलेक्ट्रॉन किरण अश्मलेखन

सूची इलेक्ट्रॉन किरण अश्मलेखन

इलेक्ट्रॉन किरण अश्मलेखन (e-beam lithography) एक ऐसी पक्रिया है जिसमें इलेक्ट्रानों के किरण पुंज को रैसिस्ट से लिपे सतह पर एक सांचे (पैटर्न) के अनुसार क्रमवीक्षित (स्कैन) किया जाता है। इसका प्रमुख लाभ यह है कि इसकी सहायता से दृष्य प्रकाश के विवर्तन सीमा को लांघना सम्भव हो पाता है। जिससे नैनोमीटर स्तर तक के गुणादि (फीचर) देखे जा सकते हैं, अन्यथा यह सम्भव नहीं होता | प्रकाशिक अश्मलेखन में प्रयुक्त होने वाली मास्क के निर्माण में, कम मात्रा में अर्धचालक युक्तिओं के उत्पादन में तथा अनुसंधान और विकास में इसका प्रचुर मात्रा में उपयोग होने लगा है। .

3 संबंधों: नैनोप्रौद्योगिकी, इलेक्ट्रॉन पुंज प्रौद्योगिकी, अवलोकन टनलिंग सूक्ष्मदर्शी यंत्र

नैनोप्रौद्योगिकी

नैनोतकनीक या नैनोप्रौद्योगिकी, व्यावहारिक विज्ञान के क्षेत्र में, १ से १०० नैनो (अर्थात 10−9 m) स्केल में प्रयुक्त और अध्ययन की जाने वाली सभी तकनीकों और सम्बन्धित विज्ञान का समूह है। नैनोतकनीक में इस सीमा के अन्दर जालसाजी के लिये विस्तृत रूप में अंतर-अनुशासनात्मक क्षेत्रों, जैसे व्यावहारिक भौतिकी, पदार्थ विज्ञान, अर्धचालक भौतिकी, विशाल अणुकणिका रसायन शास्त्र (जो रासायन शास्त्र के क्षेत्र में अणुओं के गैर कोवलेन्त प्रभाव पर केन्द्रित है), स्वयमानुलिपिक मशीनएं और रोबोटिक्स, रसायनिक अभियांत्रिकी, याँत्रिक अभियाँत्रिकी और वैद्युत अभियाँत्रिकी.

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इलेक्ट्रॉन पुंज प्रौद्योगिकी

कोई विवरण नहीं।

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अवलोकन टनलिंग सूक्ष्मदर्शी यंत्र

(100) आणुविक स्तर पर सतहों को देखने के लिये अवलोकन टनलिंग सूक्ष्मदर्शी यंत्र (अंगरेजी में.

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